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转发:中国电子科技集团公司第五十五研究所对外开放课题指南

  为更好地汇聚高水平研究力量,加强对外开放和合作交流,推动任务目标的高质量完成,中国电子科技集团公司第五十五研究所现发布专项对外合作指南,欢迎高等院校、科研机构和行业企业的研究人员踊跃申报。

一、指南内容


指南一:

课题名称:基于碳化硅器件的中压功率转换装置建模与设计

密级:公开

研究目标和内容:本项目面向中压配电网中储能、固态变压器等新能源规模化接入需求,依托碳化硅(SiC)器件的技术优势,从成本、能效、功率密度、可靠性等方面综合比较,揭示基于不同电压等级的SiC器件的中压功率转换装置的固有优缺点,并开展中压功率转换装置的关键技术研究及工程验证。研究适用于SiC器件的三电平变换器拓扑结构,优化主电路参数与绝缘配合方案,提升系统功率密度与运行效率。开发适用的SiC器件驱动电路,研究有源电压钳位保护技术,解决多芯片串并联均压、短路快速保护等工程难题,保障装置在复杂工况下的长期可靠运行。研究面向弱电网的构网型控制方法,使装备具备电压源外特性,能够主动支撑电网频率与电压,提供虚拟惯量调节与一次调频功能,提升新能源接入系统的稳定性。建立全系统高精度仿真模型,开展多工况仿真分析与参数优化,在典型中压配电网示范工程中开展装备并网运行验证,测试各项技术指标与实际运行效果。

研究指标:见附件

合作经费:100万元

研究周期:6个月


指南二:

课题名称:GaN功率开关器件在工程应用中的失效机理及长期可靠性研究

密级:公开

研究目标和内容:围绕GaN功率开关器件在主流高功率密度电源模块中的工程应用场景,开展基于不同电源电路架构的高功率密度集成技术研究,基于GaN器件及多种不同电路拓扑(≥4种),实现多款高功率密度集成电源模块产品。开展GaN器件在不同电源电路拓扑中实际复杂工况下的热、电、力等应力(包括单应力、多应力耦合等)分析,提炼出在实际工程应用中针对GaN功率开关器件的可靠性评估方案,以完善当前GaN功率开关器件的可靠性评估标准。开展模块级产品中GaN器件在热、电、力等综合应力下的性能退化及长期可靠性研究,进一步牵引器件层级在性能及可靠性方面的改进与提升。

研究指标:见附件

合作经费:100万元

研究周期:7个月


指南三:

课题名称:大电流氮化镓功率器件动态可靠性测试技术研究

密级:公开

研究目标和内容:研究氮化镓功率器件动态可靠性,开发双脉冲动态特性测试技术、硬开关动态电阻可靠性测试技术、非钳位感性负载开关可靠性技术、短路可靠性技术和浪涌可靠性测试技术,研究重复硬开关下器件电学参数退化机理及退化模型。

研究指标:见附件

合作经费:90万元

研究周期:6个月


指南四:

课题名称:GaN HEMT器件缺陷表征与性能提升

密级:公开

研究目标和内容:针对GaN增强型器件典型结构(pGaN cap和MIS-HEMT等),开展外延材料关键结构研究,重点面向掺杂与缺陷分布进行研究,掌握适用于射频工作的增强型HEMT材料结构设计方法。建立关键结构缺陷与界面态计算分析方法,揭示增强型射频器件在特定应用场景下性能退化和失效物理机制,并建立器件模型。对异质结材料二维电子气浓度调制机制开展研究,探索增强型器件实现新方案。

研究指标:见附件

合作经费:80万元

研究周期:6个月


指南五:

课题名称基于人工智能算法的SiC光控开关结构智能化设计技术研究

密级:公开

研究目标和内容:针对高功率应用场景,开展基于人工智能算法的SiC光控开关快速设计与优化研究。建立能够涵盖衬底载流子寿命、器件电容、静态电压电流(VI)特性及内部电场分布的智能化模型,实现对单脉冲和重频激光触发下器件瞬态性能的快速预测。通过AI算法替代传统耗时的仿真手段,寻找最优解的器件结构参数,以提升开关的耐压能力、响应速度和热稳定性,形成一套高效的固态开关智能化设计方法。

项目指标:见附件

合作经费:80万元

研究周期:6个月


指南六:

课题名称:脉宽可调节高峰值功率光调控系统研究

密级:公开

研究目标和内容:光信号作为光控器件的触发源,是决定光控器件响应波形的关键。为适配多种材料体系光控器件的敏感波长,实现光控器件的脉宽可调制输出,需研制脉宽可调节的多波长、高峰值功率光调控系统。拟通过种子调制模块、光纤放大(或固体放大)模块、倍频模块等集成,搭建波长与脉宽可调节并稳定输出的光调控系统,确保可调制输出光控器件研究的顺利开展。

研究指标:见附件

合作经费:80万元

研究周期:6个月


指南七:

课题名称:基于人工智能技术的射频SiP模块三维逆向建模研究

密级:公开

研究目标和内容:本课题旨在研究射频SiP模块的智能三维逆向建模,实现可用于数字样机交付的建模能力。解决现有建模流程中转换效率低下、工作流程不规范等问题,同时为多物理场协同仿真与设计验证提供模型基础与工具链支持。开发兼容主流设计环境(如Altium Designer的.PcbDoc)及通用CAD图纸(.dwg)的数据接口,实现电路装配图高精度几何特征提取。基于人工智能技术,从二维图纸中自动识别、分类并提取关键结构特征,包括芯片布局、外形轮廓及键合引线等几何参数,为三维重构提供无损数据基础。构建集成现有设计规则、工艺知识与射频封装特征的参数化组件库与知识库。在现有典型三维结构及数字化装配资源下,研发二维数据与三维模板的智能映射与自动装配算法,实现从布局到完整三维装配体的一键生成,确保模型具备分层材料属性、端口定义及仿真网格就绪能力。

研究指标:见附件

合作经费:40万元

研究周期:6个月


指南八:

课题名称:高深宽比通孔电镀铜填充数值仿真研究

密级:公开

研究目标与内容:针对直通孔铜致密填充技术研究缺乏相应理论基础的问题,通过理论分析及数值仿真研究通孔蝴蝶型填充机理,并建立相应仿真模型,明确电镀液组分及工艺参数对通孔铜填充的调控机制。基于本单位铜填充电镀线,通过数值仿真优化量产电镀铜填充均匀性。

研究指标:见附件

合作经费:20万元

研究周期:6个月



二、申报要求


1、申请的课题研究应满足指南信息所列研究目标、技术指标等要求;申请经费原则上不超过指南信息所列的参考经费,具体经费安排按照竞争择优后确定。

2、不受理因学术不端、科研诚信不佳、重大失泄密等问题进入黑名单而尚未解禁的申请人和申请单位。

3、同一法人单位针对同一申报指南,不得重复提交申报申请。

4、申请人按照模板(见附件)认真填写申请书,并于2026年4月27日前提交材料。提交材料包括:(1)纸质课题申请书2份,须在封面和单位审查意见处加盖单位公章,寄送至五十五所;(2)Word版课题及PDF扫描版申请书发送至各指南联系人邮箱(文件名按照“课题名称-单位名称-负责人”命名)



三、申报要求


1、评审过程分为形式审查、初审和会议评审。

2、以下情况视为形式审查不通过:(1)申报材料不全;(2)申请课题名称等与指南信息不符;(3)未按要求加盖申请单位公章、或公章与申请单位不符;(4)其他明显不符合格式要求的情况。

3、申报书的初审,每个课题择优选取不超过3家单位参加会议评审。

4、申报书的会议评审,采取现场答辩方式,申请单位必须现场答辩,否则视为弃权,采取专家打分形式择优推荐拟立项单位。会议评审具体时间地点另行通知。

5、会议评审通过原则:得分高于70分,且三分之二(含)以上专家同意通过评审;

6、会议评审结果通过电话通知。


四、联系方式


指南一联系人:程老师,

025-68115759/18502528867/

mkdlsyb@cetc.com.cn


指南二联系人:顾老师,

13814009040/

guliming@cetc.com.cn


指南三联系人:王老师,

68005168-8252/13020029278/

hhwb@cetc.com.cn


指南四联系人:朱老师,

68005168-6305/18512527343/

zhuguangrun@cetc.com.cn


指南五联系人:魏老师,

025-62115038/18205186207/

weizelu@cetc.com.cn


指南六联系人:朱老师,

17854160876/

sj6s2@cetc.com.cn


指南七联系人:李老师,

025-68005965/18795996534/

mkdlsyb@cetc.com.cn


指南八联系人:杨老师,

025-68005057/18506936980/

xuda55@cetc.com.cn


通信地址:江苏省南京市江宁区正方中路166号。


转载网址:https://mp.weixin.qq.com/s/WxfoWFPIhcbkCyeFxrAL_g

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